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विवरण

1। जर्मेनियम (जीई)

जर्मेनियम (जीई) 8-12 μm तरंग दैर्ध्य बैंड में उच्च प्रदर्शन अवरक्त इमेजिंग सिस्टम के लिए पसंदीदा लेंस और विंडो सामग्री है। इसकी उच्च अपवर्तनांक न्यूनतम सतह वक्रता के कारण कम बिजली इमेजिंग प्रणालियों के लिए आदर्श बनाता है। रंगीन विपथन छोटा है, अक्सर सुधार की आवश्यकता को समाप्त करता है।

क्रिस्टलोग्राफिक गुण
syngony	घन
क्रिस्टल रूप	पाली या एकल क्रिस्टल
लैटिस कॉन्सटेंट	5.66
cleavability	& lt; 111 & gt;
आणविक वजन	72.6
भौतिक गुण
घनत्व, 20 डिग्री सेल्सियस पर	5.33
कठोरता, mohs	6.3
300 k पर 9.37 × 109 hz के लिए ढांकता हुआ निरंतर	16.6
गलन	937
तापीय चालकता, w / m · k at 293 k	59
थर्मल विस्तार, 298 k पर 1 / k	6.1 × 10-6
273-373 k पर विशिष्ट ताप क्षमता, j / (kgk)	0.074
बैंडगैप, ईव	0.67
knoop कठोरता, किग्रा / मिमी 2	800
युवा मापांक, gpa	102.66
कतरनी मापांक, gpa	67.04
थोक मापांक, gpa	77.86
डेबी तापमान, के	370
जहर के अनुपात	0.278
लोचदार गुणांक	c11 = 129, c12 = 48.3, c44 = 67.1
स्पष्ट लोचदार सीमा	89.6 एमपीए (13000psi)
रासायनिक गुण
पानी में घुलनशीलता	कोई नहीं
एसिड में घुलनशीलता	घुलनशील
आणविक वजन	72.59

2। सिलिकॉन (सी)

सिलिकॉन (si) czochralski पुलिंग तकनीक (cz) द्वारा उगाया जाता है और इसमें कुछ ऑक्सीजन होते हैं जो अवशोषण बैंड का कारण बनता है 9 माइक्रोनोसेटो से बचने के लिए, सामग्री एक फ्लोट-ज़ोन (fz) प्रक्रिया द्वारा तैयार की जा सकती है। ऑप्टिकल सिलिकॉन को आमतौर पर हल्के से डोप किया जाता है (5 से 40 ओम सेमी) 10 माइक्रोन से ऊपर सबसे अच्छा संचरण के लिए, और डोपिंग आमतौर पर बोरॉन (पी-प्रकार) और फास्फोरस (एन-प्रकार) है। डोपिंग के बाद सिलिकॉन में एक और पास बैंड है: 30 से 100 माइक्रोन जो केवल उच्च प्रतिरोधकता में प्रभावी है असंगत सामग्री।

cz सिलिकॉन आमतौर पर 1.5-8 माइक्रोन क्षेत्र में अवरक्त रिफ्लेक्टर और खिड़कियों के लिए सब्सट्रेट सामग्री के रूप में उपयोग किया जाता है। 9 माइक्रोन पर मजबूत अवशोषण बैंड इसे सीओ 2 लेजर ट्रांसमिशन अनुप्रयोगों के लिए अनुपयुक्त बनाता है, लेकिन यह अक्सर होता है इसकी उच्च तापीय चालकता और कम घनत्व के कारण लेजर दर्पण के लिए उपयोग किया जाता है। खिड़की के रूप में आवेदन, लेंस में 1.5 - 8 उम क्षेत्र; co2 लेजर और स्पेक्ट्रोमीटर अनुप्रयोगों के लिए दर्पण।

क्रिस्टलोग्राफिक गुण
syngony	घन
जाली निरंतर, a	5.43
भौतिक गुण
घनत्व	2.33g / cm3
कठोरता, mohs	7
9.37 x 109 हर्ट्ज के लिए ढांकता हुआ निरंतर	13
पिघलने बिंदु, सामने	1414
313 k पर तापीय चालकता, w / m · k	163
थर्मल विस्तार, 293 k पर 1 / k	2.6x10-6
विशिष्ट ताप क्षमता, j / (kg ° c)	712.8
बैंडगैप, ईव	1.1
knoop कठोरता, किग्रा / मिमी 2	1100
युवा मापांक, gpa	130.91
कतरनी मापांक, gpan	79.92
थोक मापांक, gpa	101.97
डेबी तापमान, के	640
जहर के अनुपात	0.28
रासायनिक गुण
पानी में घुलनशीलता	कोई नहीं
आणविक वजन	28.09

3 、 zns सामग्री:

गहन गर्मी और दबाव में मल्टीस्पेक्ट्रल zns, क्रिस्टलीय जाली के भीतर के दोष लगभग समाप्त हो जाते हैं, ए 0.4 से 12 माइक्रोन तक न्यूनतम तितर बितर और उच्च संचरण विशेषताओं वाली पानी-साफ़ सामग्री। यह सामग्री है उच्च प्रदर्शन वाले सामान्य एपर्चर सिस्टम के लिए विशेष रूप से अच्छी तरह से अनुकूल है जो एक व्यापक तरंग दैर्ध्य में प्रदर्शन करना चाहिए स्पेक्ट्रम।

विशेष विवरण:

सामग्री: zns मल्टीस्पेक्ट्रल
व्यास सहिष्णुता: --------------------- +0.0, -0.1 मिमी
मोटाई सहिष्णुता: -------------------- mm 0.1 मिमी
स्पष्ट एपर्चर: ---------------------------- & gt; 85%
समानांतरवाद: ----------------------------------- 3 चाप मिनट
सतह की गुणवत्ता: ---------------------------- 80-50 खरोंच और खुदाई
तरंग विरूपण: -------------------- λ / 2 प्रति 25 मिमी @ 633 मिमी
बेवल: ----------------------------------------- सुरक्षात्मक (& lt; 0.2 मिमी x 45 °)
कोटिंग: -------------------------------------- वैकल्पिक, uncoated, ar कोटिंग, आदि --------

4. znse सामग्री

znse अवरक्त में कम अवशोषण के लिए लेंस, विंडोज, आउटपुट कपलर और बीम विस्तारकों के लिए एक पसंदीदा सामग्री है तरंग दैर्ध्य और इसके दृश्य संचरण। उच्च-शक्ति अनुप्रयोगों के लिए, यह महत्वपूर्ण है कि सामग्री थोक अवशोषण और आंतरिक दोष संरचना को सावधानीपूर्वक नियंत्रित किया जाना चाहिए, ताकि न्यूनतम-नुकसान की पॉलिशिंग तकनीक को नियोजित किया जा सके, और उच्चतम गुणवत्ता वाले ऑप्टिकल पतली-फिल्म कोटिंग्स का उपयोग किया जाता है। सामग्री अवशोषण co2 लेजर वैक्यूम कैलोरीमीटर द्वारा सत्यापित है। हमारे गुणवत्ता आश्वासन विभाग अनुरोध पर परीक्षण और विशिष्ट प्रकाशिकी प्रमाणन प्रदान करता है।

znse गैर-हीड्रोस्कोपिक और रासायनिक रूप से स्थिर है, जब तक कि मजबूत एसिड के साथ इलाज नहीं किया जाता है। अधिकांश औद्योगिक में इसका उपयोग करना सुरक्षित है क्षेत्र, और प्रयोगशाला वातावरण।

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	एच	40.3°	29 . 9 °	22.7 °
	वी	30. 8 °	2 2 . 7 °	17.1 °
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